ASML и Samsung расширяют партнерство в области технологии High NA EUV

03:33 AM EDT, 09/08/2026 (MT Newswires) -- ASML (ASML) и Samsung Electronics во вторник заявили, что расширят своё партнёрство для продвижения литографии High NA EUV и производства полупроводников для чипов следующего поколения. Компания сообщила, что Samsung присоединится к отраслевой инициативе по разработке фотошаблонов 12 дюймов для систем High NA EUV, что может повысить эффективность производства чипов и снизить затраты по сравнению с текущим форматом 6 дюймов. Также Samsung планирует использовать технологию High NA EUV от ASML для массового производства DRAM к 2028 году.