TSMC: самое новое оборудование ASML для производства чипов слишком дорогое, поэтому покупку отложат

```htmlЗаместитель главного операционного директора TSMC Кайфу Чжан (Kevin Zhang) заявил, что компания в настоящее время не планирует использовать новейший высоко числовой апертурный экстремально ультрафиолетовый литографический аппарат (high-NA EUV) от ASML, стоимость которого превышает 350 миллионов евро (примерно 410 миллионов долларов США) за единицу. Кайфу Чжан также объявил, что компания начнёт производство продвинутых чипов по технологическому процессу A13 в 2029 году. «Мы по-прежнему можем извлекать выгоду из существующих экстремально ультрафиолетовых литографических машин (EUV),» — сказал Кайфу Чжан, отметив, что новое поколение аппаратов high-NA EUV «очень, очень дорогое».```