ASML planuje opracować nowe rozwiązanie do produkcji zaawansowanych urządzeń do wytwarzania chipów o większej powierzchni

```htmlASML poinformowała, że planuje współpracować z kluczowymi klientami w celu opracowania nowych rozwiązań umożliwiających produkcję najnowocześniejszych urządzeń do wytwarzania chipów, aby zaspokoić zapotrzebowanie na duże chipy do centrów danych projektowane przez firmy takie jak Nvidia. Obecnie produkowane przez ASML szeroko stosowane maszyny do litografii ekstremalnie ultrafioletowej (EUV) są w stanie wytwarzać chipy o maksymalnej powierzchni około 800 milimetrów kwadratowych. Nadchodząca generacja maszyn EUV o „wysokiej liczbie apertury” pozwoli na produkcję jeszcze bardziej precyzyjnych chipów. Jednak ze względu na zastosowanie mniejszych fotomasek, obecnie istnieją ograniczenia co do maksymalnej powierzchni produkowanych chipów. ASML planuje w 2031 roku zaprezentować linię testową produkującą z użyciem większych fotomasek, a w 2033 roku umożliwić masową produkcję tej nowej technologii.```