ACM ResearchがUltra C Tahoeをマルチプロセスウェットプロセッシングプラットフォームに拡張

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Reuters2026/08/07 09:11

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ACM Researchは、Ultra C Tahoeシステムを高度なロジックおよびメモリー製造向けのマルチプロセスウェットプロセッシングプラットフォームへと拡張しました。
このプラットフォームはバッチ処理と単一ウェハ処理のウェットプロセスを一つのアーキテクチャに統合し、ウェハの移送数削減、サイクルタイム短縮、スループット向上を目指しています。
複数の主要半導体メーカーが拡張プラットフォームを採用しており、高度ノードのウェットプロセッシングにおける生産準備が整ったことを示しています。
追加されたモニタウェハリクレイム機能は現在大量生産で稼働しており、膜除去、洗浄、乾燥を一つのツールで統合しています。
同社は最大75%の硫酸使用量削減を挙げており、コスト削減と化学廃棄物低減を目標としています。

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