ASML und TSMC starten Initiative für großformatige High-NA EUV-Fotomasken

智通财经2026/09/08 06:26

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ASML (ASML.US) und TSMC (TSM.US) haben gemeinsam eine Initiative gestartet, die darauf abzielt, die Branche bei der Umstellung auf High-NA EUV-Großformat-Photomasken anzuführen.

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